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覆铜板

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别名:C、L、,、 、o、p、e、r、l、a、d、m、i、n、t、CCL、Copper Clad Laminate

覆铜板是制造PCB的基础材料,由铜箔和绝缘层压合而成。

覆铜板(CCL, Copper Clad Laminate)

覆铜板是制造PCB的基础材料,由铜箔和绝缘层压合而成。

分类

类型 特点
[[多层板#18层以上多层板|18层以上多层板]] 高层数,高密度,AI服务器刚需
HDI板 微盲孔/埋孔,高密度互连
封装基板 承载芯片的特种覆铜板

核心关系

材料体系(AI化方向)

[铜箔](/wiki/copper-foil/)(HVLP/VLP低粗糙度,受[趋肤效应](/wiki/skin-effect/)驱动) + [电子级玻璃纤维布](/wiki/electronic-gradeglass-fabric/)(低损耗E-Glass / [NE-Glass](/wiki/ne-glass/))
  + 低损耗树脂([环氧树脂](/wiki/epoxy-resin/)改性 / [PPO](/wiki/ppo/) / [PPE](/wiki/ppe/) / [MPI](/wiki/mpi/) / LCP)
    → [覆铜板](/wiki/copper-clad-laminate/)(高速低损耗CCL)
      → [18层以上多层板](/wiki/18-layer-multilayer-pcb/)(AI服务器高速互连)
        → [M9](/wiki/m9/)等高端牌号材料需求

AI高端覆铜板特性

  • 低介电损耗:Df<0.002,满足112G/224G SerDes
  • 低膨胀:CTE 6-9 ppm/°C,匹配芯片封装
  • 高耐热Tg ≥170°C,无铅焊接耐温
  • 高可靠性:CAF抵抗性,高温高湿测试通过

AI产业刚需性

18层以上多层板、HDI板和封装基板成为主要增长点,覆铜板需求呈上升趋势。

封装基板IC载板的原材料之一,属于高端CCL范畴。

相关公司:生益科技、建滔积层板、华正新材

关键问答

覆铜板 与「- **下游**:[PCB](」的关系是什么?
- **下游**:[PCB](/wiki/pcb/)制造 → 电子产品。
覆铜板 与「- **AI驱动**:AI服务器和高速计算对高频[低介电损耗](」的关系是什么?
- **AI驱动**:AI服务器和高速计算对高频[低介电损耗](/wiki/low-dielectric-loss/)CCL需求增长;[SerDes](/wiki/serdes/)代际升级(112G → 224G→448G)持续收紧Df预算;[趋肤效应](/wiki/skin-effect/)决定[铜箔](/wiki/copper-foil/)必须从STD升级到HVLP。

玻璃基板

以玻璃(通常是低CTE无碱玻璃)作为核心介质的下一代封装基板,被视为ABF有机载板的潜在替代方案。

原材料别名:G、l

低介电损耗

材料在高频电场中能量损耗程度的指标,是AI高速信号材料的关键参数。

原材料别名:L、o

低膨胀

材料热膨胀系数(CTE)低的特性,对AI芯片封装可靠性至关重要。

原材料别名:L、o

电子级玻璃纤维布

覆铜板(CCL)的骨架增强材料,由玻璃纤维纱编织而成。

原材料别名:E、-

封装基板

承载IC芯片的刚性基板,介于芯片和PCB之间。

原材料别名:I、C

硅片

**硅片** 是**半导体集成电路与功率器件制造的基础材料**,由高纯度单晶硅棒(多晶硅提纯 → 单晶生长 → 切片 → 研磨 → 抛光 → 清洗)加工而成,是几乎所有芯片(逻辑/存储/功率/模拟/传感器)的物理载体。硅片按尺寸分 **6 寸(150mm)/ 8 寸(200mm)/ 12 寸(300mm)**,按类…

原材料别名:硅片、半导体硅片

环氧树脂

覆铜板(CCL)与粘结片(PP)使用**最广泛、最经济**的热固性树脂体系,是FR-4与绝大多数PCB基材的树脂基础。占全球CCL树脂用量80%+。

原材料别名:环、氧

铜箔

覆铜板(CCL)的导电层,由电解或压延方式生产。

原材料别名:C、o